Tu as sûrement raison, mais si c'est le cas pourquoi avoir mentionné le 0.20 um si le NSIR peut faire moins de 0.20 ? Il aurait été beaucoup plus claire de mettre la limite inférieure clairement au lieu de dire "moins de 0.20 um à 5 um"

Et considérant que c'est plus souvent du nm que du um qui est utilisé dans les études liées à l'utilisation du silicon dans les batteries il aurait été préférable d'utiliser du nm comme ce qui a été fait lorsqu'on parle du procédé de Apollon. D'ailleurs pour ce procédé on a clairement mis une limite inferieur qui est à 1nm. 

De plus, plusieurs études utilisent le "spot size" du 150 nm lorsqu'ils parlent de l'expansion du silicium. Donc s'il faut mettre un chiffre "plus petit que" il aurait été préférable également d'utiliser le chiffre de 150 nm au lieu de 0.20 um qui équivaut à 200 nm. 

C'est des petits détails, mais ça gagnerait en clarté pour l'industrie et les actionnaires informés.